Плазменно-электролитическое оксидирование

   Плазменно-электролитическое оксидирование - вид поверхностной обработки, позволяющий получать твёрдые износостойкие покрытия на различных алюминиевых сплавах.

   Исторически происходит из традиционного анодирования, при повышении формующего напряжения до появления на обрабатываемой поверхности микроразрядных плазменных пробоев.

   Условия, возникающие в окресности микроразряда, спобствуют физико-химическому превращению оксидной плёнки с образованием высокотемпературных фаз. В частности, при определённых условиях на поверхности алюминиевых сплавов образуется композитный слой, обогащённый высокотвёрдым "корундом" (альфа форма оксида алюминия) в составе более мягкой алюмо-силикатной матрицы. Сочетание высокой твёрдости корунда с эластичностью алюмосиликатной матрицы обеспечивает экстремально высокую износостойкость таких покрытий.

   Процесс ПЭО протекает, как правило, в слабощелочных неагрессивных электролитах (~2%), не содержащих токсичных или едких компонентов, таких как хром или концентрированные кислоты.

 

Микроразряды ПЭО
Микроразряды ПЭО

Поверхность детали в процессе плазменно-электролитического оксидирования.

press to zoom
Звезда расширитель (сплав В95)
Звезда расширитель (сплав В95)

press to zoom
Корпус
Корпус

press to zoom
Микроразряды ПЭО
Микроразряды ПЭО

Поверхность детали в процессе плазменно-электролитического оксидирования.

press to zoom
1/13
О компании

 

 

Научно-технический центр "ПОКРЫТИЕ-А" в форме общества с ограниченной ответственностью образован в 2014 году при поддержке Фонда содействия инновациям в рамках программ У.М.Н.И.К и "СТАРТ". 

Своей целью НТЦ "ПОКРЫТИЕ-А" ставит продвижения метода нанесения упрочняющих покрытий на алюминиевые сплавы путём модификации их поверхности в процессе плазменно-электролитического оксидирования.

Покрытия

 

 

Основные характеристики:

-толщина 10-500 мкм:

-микротвердость  до 22 ГПа

-адгезия до 350 МПа:

-коэффициент трения 0,02-0,01

-износостойкость vs "WC-Cu-Ni" в 2-2,5 раз

-скорость нанесения  0.5 - 4 мкм/мин:

Оборудование

 

 

Источник питания Нептун-110:

- Выходная мощность 110 кВт.

- Производительность 17 см3/час

- Номинальная площадь детали 3х9 дм2

- Максимальная площадь детали 3х18 дм2

- Питание 380В 160А

- Нагрузка три электрохимические ванны

- Стабилизация рабочего тока

- Программируемые режимы обработки

- Автоматическая регистрация параметров